乾式めっき

表面処理の中でめっきとは、金属や樹脂の材料表面に他の金属による生成物を生じさせることであるが、一般に良く用いられる電気めっきが水溶液（めっき浴）中で行われるに対して、蒸着やスパッタリングなど気体中もしくは真空中にて材料表面に金属膜を生成する方法を乾式めっきと呼ぶ。

 乾式めっきには大きく分けて物理蒸着（PVD）と化学蒸着（CVD）の二種類があり、どちらも比較的新しい金属膜生成方法として開発されている。

 いずれの方法も、金属をガス化させて処理物表面に皮膜を生成するため、湿式めっきに比べ装置は大がかりなものが必要とされる。

 これとは別に、表面膜生成を気体中で行うことから、溶射を乾式めっきに含める場合もある。